АГЕНТНОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ МУЛЬТИКЛАСТЕРНЫХ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ КОМПЛЕКСОВ НАНОЭЛЕКТРОННЫХ ПРОИЗВОДСТВ

A. V. Prokhorov, Yu. A. Kuznetsova

Анотація


Проведен анализ особенностей автоматизированных производственных процессов и кластерной компоновки технологических комплексов наноэлектронных производств, предложен подход к повышению производительности автоматизированного кластерного оборудования в полупроводниковом производстве на основе управления потоками полуфабрикатов. Предложена имитационная модель анализа процессов управления потоками полуфабрикатов и расчета характеристик наноэлектронных производств, которая позволяет производить поиск рациональных решений, связанных с управлением потоков полуфабрикатов в мультикластерных технологических комплексах любой архитектуры с учетом ресурсных ограничений и факторов риска. Модель основывается на мультиагентном подходе, что дает следующие преимущества: автономность и индивидуальное поведение элементов модели (агентов), агенты имеют возможность адаптироваться и менять свое поведение, иметь динамические связи с другими агентами, которые могут формироваться и исчезать в процессе моделирования и др. Разработанная агентная имитационная модель учитывает сложную динамику наноэлектронного производства и обеспечивает моделирование мультикластерных технологических комплексов различной топологии и реализует различные стратегии и алгоритмы управления потоками полуфабрикатов. Сформированы постановки задач планирования перемещений полуфабрикатов в мультикластерных технологических комплексах, связанные с различными стратегиями и критериями эффективности для логистики наноэлектронного производства.

Ключові слова


наноэлектронное производство, мультикластерный технологический комплекс, кластер, пластина, поток полуфабрикатов, агентная модель.

Повний текст:

PDF

Посилання


Шишмарев В. Ю. Организация и планирование автоматизированных производств : учебник / В. Ю. Шишмарев. – М. : Академия, 2013. – 304 с. 2. Mohammad I. Handbook of sensor networks : compact wireless and wired sensing systems / edited by Mohammad Ilyas Mohammad and Imad Mahgoub. – Boca Raton, Florida : CRC Press LLC, 2005. – 776 p. 3. Lopez M. J. Systems of multiple cluster tools: configuration, reliability, and performance / M. J. Lopez, S. C. Wood // IEEE Trans. on Semiconductor Manufacturing. – 2003. – Vol. 16, № 2. – P. 170–178. 4. Акопов, А. С. Имитационное моделирование : учебник и практикум для академического бакалавриата / А. С. Акопов ; Высшая школа экономики (ВШЭ), Национальный исследовательский университет (НИУ). – Москва : Юрайт, 2015. – 389 с. 5. Challenges and Solution Approaches for the Online Simulation of Semiconductor Wafer Fabs / [D. Noack, M. Mosinski, O. Rose, P. Lendermann, and B. P. Gan] // Winter Simulation Conference : The premier international conference for simulation professionals in discrete and combined discrete-continuous simulation, AZ, USA, 11–14 December 2011 : proceedings. – Phoenix : WSC, 2011. – P. 1845–1856. 6. Uhlig T. Simulation-based optimization for groups of cluster tools in semiconductor manufacturing using simulated annealing / T. Uhlig, O. Rose // Winter Simulation Conference : The premier international conference for simulation professionals in discrete and combined discrete-continuous simulation, AZ, USA, 11–14 December 2011 : proceedings. – Phoenix : WSC, 2011. – P. 1857–1868. 7. Towards Realization of a High-Fidelity Simulation Model for Short-Term Horizon Forecasting in Wafer Fabrication Facilities / [W. Scholl, B. P. Gan, M. L. Peh and other] // Winter Simulation Conference : The premier international forum for disseminating recent advances in the field of system simulation, MD, USA, 05–08 December 2010 : proceedings. – Baltimore : WSC, 2010. – P. 2563–2574. 8. Zuberek W. M. Cluster tools with chamber revisiting – Modeling and analysis using timed Petri nets / W. M. Zuberek // IEEE Transactions on semiconductor manufacturing. – 2004. – Vol. 17, № 3. – P. 333–344. 9. Throughput Analysis of Linear Cluster Tools / [J. Yi, S. Ding, M. T. Zhang, V. D. Meulen] // IEEE International Conference on Automation Science and Engineering: International Conference, AZ, USA, 22–25 September 2007 : proceedings. – Scottsdale : IEEE, 2007. – P. 1063–1068. 10. Varadarajan A. A survey of dispatching rules for operational control in wafer Fabrication / A. Varadarajan, S. C. Sarin // Information Control Problems in Manufacturing: The 12th IFAC International Symposium, France, 17–19 May 2006 : proceedings. – Saint Etienne : ELSEVIER, 2006. – P. 709–720. 11. Wang P. Hybrid Model applied in the Semiconductor Production Planning / P. Wang, T. Murata // International MultiConference of Engineers and Computer Scientists: International MultiConference, China, 13–15 March 2013 : proceedings. – Hong Kong : Newswood Limited, 2013. – P. 964–968.






Адреса редакції журналу:
Редакція журналу «РІУ», Запорізький національний технічний університет, 
вул. Жуковського, 64, м. Запоріжжя, 69063, Україна. 
Телефон: 0 (61) 769-82-96 – редакційно-видавничий відділ
E-mail: rvv@zntu.edu.ua

При повному або частковому використаннi матерiалiв посилання на журнал є обов’язковим.